激光直写技术采用全新的技术路径提高加工分辨率，一举突破突衍射极限的限制，成功实现纳米尺度加工；突破了目前激光直写仅能用于有机光刻胶的现状，可以广泛应用于各种受体材料，极大地扩展了激光直写设备的应用范围。

新一代激光直写光刻设备特点

具有核心知识产权的国产激光直写设备

具有超越衍射极限的加工能力

激光直写技术可适用于多种受体材料

本可根据客户需要提供定制设备并提供各种微纳结构样品的加工服务。

一、激光直写系统的工作原理

激光直写系统是一种利用激光束直接刻写三维结构的方能的微小器件，如药物输送系统、生物传感器等。

光学元件

激光直写系统可以高精度的光学元件，如微透镜、光纤耦合器、波导等。这些元件在通信、光电子学、生物医学等领域有着广泛的应用。

激光直写技术

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